
產品分類
PRODUCT CLASSIFICATION產品中心/ products

產品型號:
更新時間:2025-11-20簡要描述:本產品專為半導體、鋰電池、顯示面板等制造業設計的高純度電子化學品。通過獨特的單次過濾純化工藝,能將工業級(G3)NMP 原液提純至準 G5(半導體級)水平,有效去除金屬顆粒、離子殘留及微小顆粒物,滿足對潔凈度有苛刻要求的精密工藝應用。
核心性能優勢
1. 超高金屬純度:關鍵金屬雜質含量降至 ppt 級別,滿足半導體工藝對金屬污染物的極限要求。
2. 優異的顆粒控制:過濾后,≥0.5μm 的顆粒物數量降至個位數水平,遠優于原液狀態。
3. 穩定的水分控制:水分含量穩定在約 180ppm,與原液保持一致,避免因吸水引入額外風險。
4. 高效的純化工藝:通過單次過濾即可實現從 G3 到準 G5 的能級躍升,工藝簡潔高效。
主要應用領域
• 半導體制造:用于光刻膠剝離、晶圓清洗等工序。
• 鋰電池行業:作為負極材料(如 SBR 粘結劑)的高純度溶劑,用于電極漿料制備。
• 顯示面板:用于聚酰亞胺(PI)漿料的稀釋和涂布。
• 其他精密電子:任何要求超低金屬雜質和顆粒污染的制造領域。